什么是E光？

E光技术充分联合光能和射频能的优势互补，利用皮肤对光能的选择性吸收引起靶组织和正常皮肤的阻抗差异，在光能强度较低的情况下强化靶组织对射频能的吸收，极大消除了光能过强的热作用可能引起的副作用和顾客不适

E光的核心技术主要有三点：射频＋光能＋表皮冷却。在E光技术中，光能扮演的使一个引导者的角色，引导射频能集中作用于靶组织，在光能强度较低的情况下强化靶组织对射频的吸收。同时治疗头表面接触式冷却技术消除了因光能过强导致的热作用并增加了表皮的阻抗，减少表皮对射频能的吸收，使疗效和安全性都大大提高，而且对浅色靶组织同样有效。

独特的ISL安全装置确保安全：治疗头每发光一次，仪器内部就可精确地测定实时的皮肤阻抗值，当阻抗值超过预设最高值时，会自动切断射频能，确保皮肤温度不会过度升高，从而保障整个治疗过程的安全可控。

作用机理

普通光能(激光/强光)在治疗过程中，基于光的选择性吸收原理，光能在穿透表皮时，会被表皮色素大量吸收，高能量或者深色皮肤治疗时风险较大。另外由于大部分光能被反射和折射，真正到达并被靶组织充分吸收的能量仅占30～40％，所以，为了达到治疗目的，就需要提高能量。但表皮色素对光能的大量吸收，限制了在治疗时能量选择不应过大，从而影响了单次治疗的效果。

由于E光在治疗过程中，光能主要用于调整靶组织的阻抗值，引导RF(射频)能量集中作用于靶组织。光能不是主要治疗能量，从而避免了主要能量的反射和折射问题。基于RF(射频)的特性，RF(射频)在皮肤组织产生的热效应取决于电流密度，电流密度的分布取决于皮肤组织的阻抗分布，组织温度越高阻抗越低，电流密度越大，产生的热效应越高；反之，组织温度越低阻抗越高，电流密度越小，产生的热效应越低。所以靶组织对起主要治疗作用的RF(射频)能量的吸收并不受表皮色素屏障的影响，RF(射频)能量可以充分作用于靶组织，得到良好的治疗效果。

穿透深度

决定普通光能的穿透深度是波长或波段，波长越长穿透越深，波长越短穿透越浅，最深穿透不超过4mm。E光的穿透深度取决于RF(射频)的穿透深度，RF(射频)的穿透深度是RF(射频)两极之间距离的一半，根据这个原理，E光治疗系统根据不同的治疗目的合理设计的治疗头，使得E光的穿透深度完全满足于治疗要求，最深穿透可达皮下15mm，进一点确保了治疗的有效性。

E光的优势

E光的并发症更少

E光系统中的光能和射频能均可单独控制，操作者在治疗过程中可以选用较低的光能和较高的射频能，从而将术后产生表皮灼伤的风险降为最低。所以E光治疗后，基本上不会出现诸如面部红肿之类的并发症，更不会出现紫癜。在使用E光进行治疗时，操作者根本不用担心由于高能量或者治疗头离皮肤过近所造成的表皮灼伤。此外，E光系统独特的专利技术――ISL(实时皮肤温度/阻抗监测系统)和强效的冷却系统，进一步保护表皮并确保临床疗效。

操作者与治疗者更偏爱E光

由于E光的操作难度较低，操作者经过简单的培训就能熟练掌握，合理设计的治疗头使操作者在操作过程中更加轻松。此外，E光治疗与传统光能治疗相比具有临床见效更快、治疗速度更加快捷、治疗过程更舒适、治疗后无副作用、治疗隐秘性更高等显著特点，所以真正满足现代人的健康追求，深受治疗者的青睐。

E光设备性价比更高

在不影响临床疗效的前提下E光系统的维护费用大幅度降低，治疗头的使用寿命延长。这两项费用在设备使用的第二、三年基本可以忽略不计，这就节约了一笔很大的费用。并且日常维护保养简单易行，仅需要简单的技术培训就可以掌握。